利用数十年对于原材料的经验，我们通过卓越网络中心开发了半导体制造的增值能力。
新材料和腐蚀性气体技术
与国际半导体技术蓝图(ITRS)相结合，我们的圣马科斯(美国)中心的过去及近期的研发成果包括超高纯六氟化钨(WF6)和新颖的高- k ALD工艺先驱体。
稀有气体和卤素
在深紫外光(DUV)光刻技术的发展中，我们的阿尔法(美国)工厂已率先在248nm和193nm的准分子激光器中采用了高纯度卤素气体的混合物。我们在其他领域的专业技术，还包括氙气回收和浓缩同位素的气体和化学品。
氟技术反应腔清洗
我们的仁州(韩国)工厂拥有较新的低成本、模块化氟发生器。此项零碳技术在越来越严格的行业环境立法下的重要性日益突出。
我们与主要客户、OEM厂商、学术机构和产业集团也联合开发项目。
范围
我们提供半导体制造过程中的所需气体:
超纯大宗气体
现场气体发生器
气瓶和批量供应的电子特种气体。
| 大宗电子气体 | 电子特殊气体 |
| 氮 | 硅源气体 |
| 氢 | 氮化物/氧化物生长 |
| 氩 | 掺杂和离子注入气体 |
| 氧 | 金属和电介质刻蚀 |
林德集团公司AUECC，专门为微电子行业制造和分配超纯湿化学品。请了解更多详细信息。
系统和专业服务
此外，我们还提供广泛的专业服务，可让您专注于核心业务，保持业务正常运行。这些服务范围从交钥匙工程设计和安装服务可延伸到气体系统端对端的管理服务，同时还有:
大宗气体储存和分配系统
大宗特种气体系统(BSGS)
气柜和配气管
全面气体及化学品管理。
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